瑞士XRNanotech高精度、高性能X射線光柵的簡介

瑞士XRNanotech高表面粗糙度、高性能X射線光柵

XXX光譜線光柵在生命值、生物質能源、建筑材料、區域環境、肉制品等方面中具有著根本APP，基于XXX光譜線光柵不是常細密的光學反應元器件，對加工工藝技術的規范要求很高，特別是在是加工高安全性能量的二維XXX光譜線光柵的難度系數更多，這樣，高安全性能量的二維XXX光譜線光柵備受有關的科研課題技術人員的期盼。

XRnanotech在X電子束光電技術科研方案和建設范圍的新的創新，超過了會的界限。充分發揮Paul Scherrer科研方案所建設的技術，加上優異的工程能力和高水平的質量控制，造就了X射線光學關鍵器件。

借助銥線倍頻技術工藝有較大甄別率

僅憑線倍頻技術水平面，可以達成精確度高度到5nm的X放電子束束集焦，所以成了日前計錄的確保者。想有這些精確度高度的集焦，X放電子束顯像的辨別好壞率達成高的水平面，使人可能切勿見的東西越來越看不見，并達成了新型的應用。該的辦法核心理念工藝設計是在體現陰離子蝕刻剝離技術肌底形式之間，在稠密網站模板上涂覆二層銥原子結構層。

運用璀璨光學元件形式提升生產率

磁學集成電路芯片的激光成功率越高，穿過的激光就越少，這暗示著成功率越高的磁學集成電路芯片都能為進行一模一樣的計劃大大節省日子和能量是什么。與的理論激光成功率極限的法為40.5%的傳統式二元光柵磁學相較于，僅增多一階的閃亮光柵都能將極限的法增進到68.4%，而再增多一階的閃亮光柵大約81.1%。

依托于光學束光刻的生產制作制作制造施工工藝，而非機械廠刻劃，能能輕松自在控制多階絢麗光柵的制作生產制作制作。在合理生產制作制作期間中，XRnatotech早就控制了衍射波帶片的光波吸收率高出50%，而業規格是5-10%，大多都數特別好的技能最大也只滿足25%。這些，除了能能將調查準確時間下調，驅動學科發展，還能能將在門頭X電子束源進取心行調查的資金下調。

金剛石光學玻璃的輻射穩定性

在曾經十多年中呢，，X光譜線源的屏幕色彩飽和度急劇下降增漲，獨立電子無線激光束器的屏幕色彩飽和度實現太陽時屏幕色彩飽和度的3億倍之上。這走上了比較重要的鉆研范圍，但也曝露了不少的X光譜線光電元器材封裝的關鍵的優越性性，在遠比高的散發熱量下，等元器材封裝更易熔化。XRnanotech定制開發出一項策略，即用最耐熱性的純天然裝修材料單支金剛石生產光電開關元件。金剛石光電能能便捷抗住FEL X光譜線束的剛度，才能消除FEL實踐中的此問題。

近年，XRnanotech已對X電子束比較廣泛APP帶來三種光學薄膜pcb板：

Zernicke相襯顯像操作：

相關內容論文：

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