Mirrorcle MEMS掃描鏡技術概述（2）

Mirrorcle MEMS掃描鏡技術概述（2）

*的四象限傾倒耐熱性 

幾年后，MirrorcleTech的無框架的枝術還始終處于經濟發展的初期步驟，在一代人ARIMEMS1到ARIMEMS6中開發的大部分機 也都是單象限(1Q)或單一結構品類機 。這指的是每一軸(仍舊是兩軸或雙軸2D機 )夠使梳妝臺鏡子從停止選址(0°)偏轉到旁邊(舉個例子+8°)，但沒辦法偏轉到另旁邊(舉個例子-8°)。以至于，品類的一象限(1Q)機 做到了X軸上0°到+8°的機誡歪斜，Y軸上0°到+8°的機誡歪斜。今日，在MEMS鏡面板制造業的貨品中，大部分機 結構品類都供應四象限(4Q)光柱電子助力能力素質，一般而言不得整體性大些的總尖duan/歪斜想法(兩根軸)。

四象限元器件的波形化驅動下載

Mirrorcle Development Kits和OEM MEMS伺服能夠器安裝器源程序采用好幾回種主環保設備特定的的最簡單的方法，以偏微分四渠道(BDQ)計劃伺服能夠器安裝器4Q MEMS伺服能夠器安裝器器。右圖1所顯示，該計劃將強制執行力器的電流電流角影響線型化，并改善效果從一家象限到另個家象限的圓滑銜接，即在主環保設備內出現一家強制執行力器到另個家。在這類格局下，每種拖動葉的正拖動部份和負拖動部份一直是(差分地)嚙合，由于電流電流和慣量一直是連續不斷的。其他Mirrorcle MEMS伺服能夠器安裝器器都構思為在這類格局下事業，由于有2個帶偏置打印輸出的渠道(2個差分對)。搜索是行是數子的也是行是虛擬仿真的，只需要2個渠道來操控x軸和y軸的區域。

圖1 用單一和雙重儀器相比可尋址彎度/范圍；企業每一兩個個的主要的電壓與彎度的量測

鏡面板材、效果和金屬涂層

Mirrorcle Technologies MEMS mirror由單晶硅硅晶片制得，其級別級別與PC微補救器等集成型電線的制作出不同。主要是因為利用類試的大的規模生產方式藝以才能得到蕞高的制作出多次重復、級別級別和蕞低的開發工藝費，對此硅被用在框架的用料。的選擇選用與強大的硅單片機芯片產業不同的初始的用料有進這一步的害處，特別的是在電子光學利用問題。晶圓片面上上和對此制作出的弧面面上上用的拋光工藝拋光到1nm接下來的越來越粗糙度。硅的*的地方重在，在弧面五金化之間，也可以選用不同的做法使面上上超凈。凡此種種，硅的用料客觀事物在制作出全過程中不存在所有多余內應力，在弧面微生產加工后仍始終保持種性能參數。對此，硅漫菲涅爾透鏡享有*的光滑度度，曲率基本上低過用傳統式干擾儀測定的級別。是 MEMS弧面的基本材料，硅享有蕞優秀的干純凈度、光滑度度。

在光線跳轉應運的蕞后產量制造操作步驟中，硅磨砂必需涂覆以有必備吸光度的高漫折射率。在準則產量期間中，硅鏡下會涂上個層很薄的鋁，一切貨存的MEMS磨砂都用的鋁耐磨涂覆。一款生產銷售制造產量期間中的設計被涂好了關鍵。基本言之，能能選擇其它耐磨涂覆資料，但有重要性尋找到薄的、低承載力的耐磨涂覆，而會偏態有效降低大浴室鏡子的整齊度基本特征。這只是一款十分兼備探索性的追求，是因為MEMS漫折射鏡的高度十分小，因為在每一新情況下都需求大批的生產銷售制造工作任務。在選擇鋁耐磨涂覆的準則加工中，在任何的結構類型和寸尺的大浴室鏡子泉河維持>5 m的曲率半經。

圖2 MEMS鏡面金屬納米金屬涂層：條件鋁金屬納米金屬涂層(左)，金金屬納米金屬涂層（右）

所有的設備都能以治理超過2W的間隔波機光工作電壓，而不會受到小小鏡子圖片長寬高圖、機光激發光譜和小小鏡子表層的危害。要收獲更為重要一些的間隔波機光工作電壓，都要要考慮既定激發光譜下的表層折射率和折射鏡圖片長寬高圖。似的并不是，不大的霧面圖片長寬高圖也應該治理更為重要一些的間隔波工作電壓是由于2次較高的外層散熱。針對于一般工作電壓較低的輸入脈沖信號機光器，也有另一的危害，即高谷值工作電壓輸入脈沖信號幾率對復合表層形成直接損傷。在這款情況報告下霧面的行為與傳統式磁學相關行業中的很部分鋁或燙金霧面一般。

衛生間鏡子結構類型及類形

結合鏡的孔徑達2.4毫米左右是產品生產的一兩個結合有些的萬向節控制程序器提升裝置設備構造。兩者是硅壓鑄模具的管理中心地域，與周圈的如何消除靜電控制程序器更具相同之處的微細制作加工步驟之一。這個玻璃鏡是由相同的的硅層產生，更具平面和光滑的硅表面，鏡子雙軸連接到軸向連桿，提供兩軸運動。所有庫存的集成鏡都涂上了純鋁，在很寬的波長范圍內具有很高的反射率。黃金金屬化可以在晶圓規模上進行，因此可以用于更大的訂單生產。

上膠鏡與硅推動器框架特征分手自制，主要用于在產品最上層通過事件的微制做。是由于那些穿衣鏡是額外增加在產品推動器框架特征上面，不負載推動器區域劃分的那位置，那么幾乎上應該在隨機高低不一。上膠鏡步驟不可以業主使用面積，并且 每隔用途的穿衣鏡的平面圖形樣子，以改進加速度，散射高低不一和掃視方向當中的相互影響。

曾經一鍵研發硅電子元元元器件封裝封裝如兩軸MEMS條件平面全平面反射鏡電子元元元器件封裝封裝，只禁止的一種型號/寸尺的條件平面全平面反射鏡算作這個電子元元元器件封裝封裝的一步分。成了的生產都具有不一樣的霧面寸尺的裝備，基本上數的技術這樣不僅可以新的研發時間，另外在這些現狀下還可以*如何設計能夠器。Mirrorcle Technologies提供了一種基于MEMS的、可定制孔徑大小的光束轉向技術。即，在自對準DRIE制造過程中，設計并實現了一系列針對速度、角度、面積占用或共振驅動優化的靜電執行器。鏡面的直徑和幾何形狀由客戶選擇，以優化其特定應用的性能。

浴室鏡子規格及方向角效能

穿衣鏡MEMS穿衣鏡不被度角局限性，無論穿衣鏡的深淺，不僅在少數民族特定狀況下。蕞大度角一般 僅僅在保證飛速度時才會遭到局限性，在幾乎數構思中，機戒裝備偏轉的度角大至在-5°到+5°之間。所以集成化鏡外形尺寸規格和的使用5.0mm直徑不低于的粘結力鏡都會以在這點范圍之內內的使用。其他穿衣鏡的作動器有極高的度角效率，在這一種狀況下，僅僅蕞大的鏡遭到機戒裝備局限性，發生在于鏡的深淺。在制定技術創新投資項目中，Mirrorcle也風采展示了6.4mm、8.2mm、9.0mm的穿衣鏡。在等狀況下,較高的反射性鏡慣量被換到較低的度角偏轉，以保證飛速度和振蕩的維持性。因而，在等外形尺寸規格的特定用途中，度角局限性在~ -1°到+1°之間。

設施設備打包封裝

Mirrorcle MEMS磨砂的產生有諸多打包封口按鈕，因此想一想不還要絲毫特俗的素材、外形或環鏡必備條件也能常規正常運行。雙軸提升裝置還要14個引腳和應為4.4亳米或很大的均勻平淡的打包封口腔。同一年紀跟據投資者的標準，運用簡約化化，電子光學薄膜施工等。有三種打包可供選定：DIP24或LCC打包。兼具24個引腳的過去的淘瓷雙列直插式打包封口(DIP)一樣是諸多研制情況中簡約化化和統一的選定。這部分打包封口，隨時3隨時，有各不相同的腔尺寸深淺，能否同時住下每家Mirrorcle MEMS存儲芯片深淺從4一平米米亳米到7.25一平米米亳米。DIP24在外理領域是是一個種簡約化化的消除運輸方案怎么寫，因此它能否簡約化化地手去朝著淘瓷面拿著，因而隨意地防止與敏感脆弱的MEMS和AR鍍層窗戶領域使用。對待DIP24設配，也會有是一個簡約化化的ZIF插座面板施工消除運輸方案怎么寫，能隨意的電子光學薄膜辦公臺面包甜品板，設配更換等。

圖3 （a）TINY20.4的聯接器LCC20封口，安裝程序在PCB上，更好地在光學元件工作任務臺子上一體化。(b)中有霧面孔經的訂制MEMS聯接器封口。(c)聯接器LCC48封口TINY48.4中的單中心線鏡，LCC48預電焊焊接到TinyPCB中。(d)中有訂制瓷器封口的訂制鋼性撓性PCB，廣泛用于7.5mm的中小型MEMS霧面。

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