DMD無掩膜光刻機

品牌	其他品牌	產地類別	國產
應用領域	化工,電子

DMD無掩膜光刻機無需制造掩膜，采用DMD數字掩膜,可在抗蝕劑內曝光所希望的任意圖案。無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數據，除此之外DMD式無掩膜光刻機還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無掩膜光刻機使用365nmLED光源，降低價格的同時實現了穩定的曝光。采用10倍物鏡，一次曝光面積可達1mm´0.6mm，曝光時間僅需1s。結合電動移動平臺，可實現曝光拼接，分辨率可達到3mm。可通過公司編寫的軟件完成詳細設定，使操作簡潔方便。

 

DMD無掩膜光刻機與傳統的光刻機不同，AU-PALET光刻機采用DMD數字掩膜光刻技術，無需制造掩膜。大大降低了時間和成本。無掩膜光刻機可以讀取任何創建的CAD文件，直接進行光刻。除了CAD文件，還可以讀取豐富的其它格式的數據，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。

  

 AU-PALET DMD式無掩膜光刻機分為短中波段的節能燈為照明，相應于別的照明，有更好的安穩可靠性和更長的生命周期，影響產品報價的還保證 了安穩可靠的曝出。AU-PALET 無掩膜光刻機為面曝出，分為10倍的物鏡，兩次曝出戶型能達到到1mm´0.6mm，配合電動旋轉臺可保證 曝出拚接，能達到到更強的曝出戶型。可按照集團編程的軟件下載完工非常簡單實際的操作和詳情因素，實際的操作簡約更方便。 專用設備比較有限集團公司上線的DMD式無掩膜光刻機有幾種。 ①  AU-PALET就是一款加快光刻的無掩膜光刻機。本儀器分為375nm的LED泛光燈，實行了可靠的暴光，且開發更高一些的可靠性和更長的蓄電量。分為10´的物鏡暴光建筑面積達標1mm´0.6mm，光刻辯認率達標5mm，并在10s 內做好暴光。②  

  ②AU-PALET­_new 是AU-PALET的升到板本，在的點光源上按照吸光度更短的365nm的發光字的LED燈用于的點光源，按照10´的物鏡報光占地面積提升1mm´0.6mm，光刻判定率提升3mm，并在1s 內完工報光。 

  u  主要的共同點

• 很快快度（1s）
• 廣領域（1´0.6mm）
• 365nm LED泛光燈
• 好的成績辨率 （3mm）
• 總費用低

 u  最主要的操作帶磁透氣膜等的同一的樣子的花紋的確立感知器，半導體行業元器件封裝的生產制作MEMS電子元器件的試制品、光電材料子，LED的試制品微文丘里管器材的試制品掩膜版自制癌細胞溶合路通道等的建設光波導路的定制    最主要的性能參數

應用 因素	AU-PALET	AU-PALET_new
光照	375nm LED	365nm LED
光刻糞便率（選用10倍物鏡）	5 mm	3 mm
曝光圖片表面積（便用10倍物鏡）	1mm´0.6mm	1mm´0.6mm
服務平臺	手動XYZq游戲平臺	人工操作XYZq網上平臺
分為	配置這種，PC， 軟文	保護裝置客觀存在，線上， 平臺
樣貌面積	420(W) x 300(D) x 600(H)	300(W) x 450(D) x430(H)
頁面	2x快門，電動三輪app等	2x動作，電動三輪品臺等