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光學頻率合成器-光頻梳

闡述簡述:EFO-COMB是一種高精度的光學頻率合成器,設計用于多項研究和工業應用,如原子激光冷卻,超精密長度測量,光學時鐘,激光雷達,天文學,超穩定微波發生器,頻率參考信號和時間戳的光學傳輸,紅外光譜等。光學頻率合成器-光頻梳

  • 廠品主要參數:
  • 零售商本質特征:代理商
  • 更換時:2021-06-02
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品牌其他品牌產地類別進口
應用領域醫療衛生,生物產業,電子,交通

光學玻璃率轉化成器-光頻梳

姓氏:谷工(Givin)

聯系電話:185 1625 1863

EFO-COMB是種高準確度的電子光學薄膜儀器聲音頻點轉化成器,設計方案用到多種科學研究和產業應該用,如原子團機光行業放涼,超高精度長短檢測,電子光學薄膜儀器鐘表,機光行業雷達天線,天文學,超平衡微波通信進行器,聲音頻點分類數據信號和用時戳的電子光學薄膜儀器傳導,紅外光譜儀等。該光學玻璃元件制作而成器單元就是某個交鑰匙安裝,還有某個摻鉺鎖模網絡光纖激光行業手術器,該激光行業手術設施有不可靠性的輸入脈沖反復重復頻段和載波包絡偏置Fceo。梳狀發電站機就能夠結構設計成借鑒頻射借鑒源(在1秒時展示5*10^-13的傳送數據不可靠性性),并且光學玻璃元件借鑒系統(在1秒近兩年降成~1*10^-16)。該模式有很大個默認設置的超連續不斷譜進行器和一用以動態平衡Fceo的f-2f抵觸儀。該標淮單園兼有4個低功耗測試光釬解耦傷害(約1560nm),常用以各方面采用和各方面先選特點的連入。全保偏光釬戰略布局,保證 交鑰匙不間歇執行。一獨立空間的控制機架是指了鎖相環單園、鎖相環單園、參數收采和界面顯示模式。 

光學頻率合成器可以集成以下功能:

  • 安全穩定的超連續性光譜分析梳在1000-2200nm超范圍,超過200mW
  • 穩定性的超間斷光譜儀梳在500-1000nm空間,將高達80mW
  • 單獨的的窄帶效果(s)與Δλ~ 2…5nm,在500-1000nm和1000-2200nm規模內的隨便場所
  • 高額定功率輸出電壓1560nm,高達模型250mW, Frep和Fceo可靠
  • 高電率所在在780nm,超過100mW,Frep和Fceo安穩
  • 拍頻查測模塊(BDUs)在梳狀情況器的光頻和表面不間斷波離子束器相互之間給出rf射頻拍頻數據
  • 鎖相環摸塊,主要用于比較穩定外表陸續波機光器到梳狀突發器的光學反應頻率
  • 速率時間范圍為10MHz到10GHz的超穩rf射頻打出
  • 差分頻率進行器(DFG)(如3400 nm)
 

產品規格:

EFO-COMB 
Comb spacing (Frep)100 MHz
Stability with connection to an RF reference<5·10^-13 at 1 s or same as reference
Stability with connection to an optical reference<1·10^-16 at 1 s or same as reference
Tuning range of comb spacing>0.7 MHz
Tuning range of offset frequency Fceo>100 MHz
Optical outputs2 or 4 fiber-coupled output ports or collimated free-space outputs at 1560 nm, 520-1000 nm, 1000-2200 nm, other wavelengths upon request (optional)
Central wavelength (fixed)1560±10 nm
Full spectral coverage (with additional options)520-1000 nm, 1000-2200 nm, other wavelengths upon request
Output power>5 mW from each output;
>250 mW @ 1560 nm (optional);
>200 mW @1000-2200 nm (optional);
>80 mW @ 520-1000 nm (optional)
Optical unit dimensions (L x W x H)356 x 492 x 110 mm
Control rack dimensions (W x L)640 x 553 mm (rack height depends on exact configuration)
 

應用領域:

超間隔譜有光頻計算磁學頻繁 梳光學薄膜鬧鐘和精力標準同歩和按時外形尺寸測度 
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